金十数据11月2日讯，中微公司在分析师会议表示，PECVD及CuBS PVD是薄膜沉积设备中价值占比高的产品。公司的PECVD设备具备16个反应台配置，采用了最新的等离子体源，具有更高的沉积速度，输出量较国内外标配设备提升80%到100%。PECVD氮氧叠层、碳掩膜等新品在客户端顺利验证中。公司的CuBS PVD设备配置14个反应腔、对称双路径设计，相较国内外标配设备大幅降低BS的电阻率，输出率提升50%至100%，获得多家头部客户认可，并已交付至国内先进逻辑器件研发线验证中。EPI设备是先进逻辑工艺中非常关键的设备，公司的减压外延设备已付运到先进制程客户端进入量产验证阶段，常压外延设备也在进入晶圆验证阶段。